谭云松几乎要哭出来：“⛞🛥杨少你怎么不早说？我还以为那个设计很完美呢？韩小🛰☟龙前两天还在到处吹牛，说顶多流个七八次片就能试验成🈑功。”
“他们的研发思路是没🀦⚪有错，只要稍微修改一下设计，这样可以把制备流程缩短30%，生产成本会大幅下降，以后良品率也会很容易上去。”
“杨少你真是天才，一眼就看出了这里面的问题，连如何修改都想好了，有你这样的天才，我想国外那些🝗闪存大厂要掉眼泪了。”
杨杰哈哈笑一笑🕂，老天爷好不容易让自己重生一回，自己手头上有大量的技术专利，不拿出利用那简直太暴殄天物了！
“我都🍊🆜🐙怀疑🞓📫🝱杨少你上辈子是不是搞IC的？这辈子是带着记忆投胎？为什么有着如此多的想法？”
“谭总你可是还科学家呢！♥怎么还相🚺😝信这一🐿🅫套！”
谭云👙松笑了起来：“没办法，国内在半导体产业🅏🅧上有着如此快速的提升，这就是一个奇迹呀！根本没办法用科🆞🐧🂋学来解释。”
“这不是谭总最希望看到的结果么。🚺😝”杨杰笑着道。🕵🎂
次日，🍊🆜🐙杨杰也是出现在了新蓝科技公司的研发中🅏🅧心，会议室里面坐满了公司研发部门的技术工程师，中间还有二十多名的MI国的工程师。
他指着投影屏幕上自制的PPT说道：“大家看啊，🕵🎂这个🛵♆多晶硅栅下面是三层绝缘薄膜，这三层薄膜分别是隧穿氧化层、氮化硅、屏障氧化层，其中氮化硅具有极高的电子陷阱密度，可以捕获电子，达到存储电荷的目的，带电就是1，不带电就是0。”
杨杰继续说道：“氮化硅之前只是用在对底层金属实现覆盖，因为针孔很🌆少，🗂😷对水汽和钠在氮化硅材料中扩散非常慢💏🐻，这次我们将氮化硅注入沟道边沿。”
他看到众人都是露出了困惑的表情，笑着解释道：“我们都知道半导体中有两种载流子，一种是电子，一种是空穴，在对单元进行写入操作时，采用热电子注入法，将热电子注入沟道边缘🜄⛒🙷🜄⛒🙷的氮化硅，这样就完成了写入过程，在作擦除时，🁆🃤🙴利用价带间的空穴，将空穴注入沟道边缘的氮化硅，消除电荷，就完成了擦除。
“由于氮化硅的绝缘性，热电子效应产🜆生的电子只能被注入并限制在沟道边缘。正是这样，两侧沟道一旦全部带电就是11，全部不带电就是00，但是我们一旦把两侧沟道其中一侧进行单独擦除，就会出现四种情况，一种是01，一种是10，于是我们就在不进行复杂工艺改变的前提下，让现有的闪存容量增加了一倍。”
“在这个基础上，我们可以今后发展出多电压控制栅极多层注入电荷技术产品，实现多层的堆叠，可以用这种技术在现有的制程工艺上最大限度地🔗增加闪存的容量，而不是完全依靠制程工艺的提升，这也大大地降低了闪存的成本。”
听到这里，会议室里一片哗然，众人都是无比惊喜，韩小龙此时激动地鼓🌆掌，随后大🈑♐家都是跟着用力地鼓🝗起掌来。
“杨少你太神了！我们得赶紧实🆎🎛验！赶紧写论文🅏🅧申请专利！”韩小龙激动地说道。
“杨先生，你的设想太完美了！🆎🎛我觉得可行！🛹🛹真的可行！这个路子怎么以前就没人想到呢！你真是天才！”
此时好几个MI国工程师都是激动⛣🜊地站起来嚷嚷。